为研究植物的生长发育、产量品质与光能利用间的关系，对植物冠层进行光能资源调查，测量植物冠层中光线的拦截成了必要手段。在技术还不成熟的过去，研究人员很难对其进行测量分析，往往需要投入大量时间精力。如今随着科技的发展，冠层分析仪被研究人员很好的利用了起来。从实际推广应用来看，仪器还是能够发挥很大作用的。
首先来说说直接测量和间接测量都是如何进行的。直接测量是通过想测定所有叶片的叶面积，再计算LAI，因要剪下全部待测叶片，多数属于毁坏性测量，或至少会干扰冠层，叶片角度的分布，从而影响数据的质量，直接测量费时、费力。间接测量就是利用冠层结构与冠层内辐射与环境的相互作用这一定量耦合关系，通过冠层分析仪来测定植物冠层的相关数据，通过植物冠层的转移模型来推断LAI。
冠层分析仪是通过处理影像数据文件来获取与冠层结构有关的，例如叶面积指数、光照间隙及间隙分布状况。通过分析辐射数据的相关信息，能够测算出冠层截获的PAR以及冠层下方的辐射水平。因此与直接测量法相比，采用冠层分析仪测量冠层数据，可以避免直接测量法所造成的大规模破坏植被的缺点，而且采用仪器进行测量操作，具有方便快捷，不受时间限制，获取数据量大等优点，非常适合用于现代农业科研研究当中，目前冠层分析仪被广泛应用于农业、园艺、林业领域有关栽培、育种、 植物群体对比与发展的研究与教学工作当中，并在实际应用中发挥了重要的作用。
